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ZX-12000SH 手动半导体清洗设备

名称:ZX-12000SH 手动半导体清洗设备
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1、用于化合物半导体对应(GaAs、Ⅲ系-Ⅴ系半导体) 清洗和腐蚀; 
2、标准RCA清洗技术,可以对应SPM、HF、SC-1、SC-2多种药业清洗;
3、对应Φ2"~Φ8"晶圆清洗和刻蚀;
4、酸槽采用贴膜加热的方式,清洗槽可根据要求配有超声波或兆声波,辅助清洗;
5、酸槽采用德国PVDF板制作,水槽和封板采用德国进口PP板制作;
6、配有 Bellows  Pump 循环药液,恒温控制,温控 精度±0.5℃;
7、装有排气系统,确保环境条件;
8、PLC全程序控制及触摸屏人机界面操作。